| 一种利用光谱强度变化检测介质折射率变化的装置 |
| 刘宏伟; 阚强 ; 王春霞; 陈弘达
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| 专利权人 | 中国科学院半导体研究所
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| 公开日期 | 2011-08-30
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| 授权国家 | 中国
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| 专利类型 | 发明
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| 摘要 | 本发明公开了一种利用光谱强度变化检测介质折射率变化的装置，包括：耦合棱镜；在耦合棱镜表面蒸镀的金属层；在金属层表面涂覆的传感介质层；形变布拉格反射镜；CCD传感器；以及在CCD传感器表面涂覆的荧光物质层。宽谱传感光束通过耦合棱镜后，特定波长与棱镜表面金属层发生表面等离子体模式共振，金属层表面介质折射率会对表面等离子体共振波长调制，不同介质折射率对应不同的波长表面等离子体耦合，通过棱镜的传感光束反射光谱由形变布拉格反射镜分光反射至CCD探测器上，利用CCD探测器不同位置对应波长光谱强度变化探测特定波长的表面等离子体共振光吸收，达到探测棱镜上金属表面介质折射率变化的目的。 |
| 部门归属 | 集成光电子学国家重点实验室
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| 专利号 | CN201010139176.7
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| 语种 | 中文
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| 专利状态 | 公开
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| 申请号 | CN201010139176.7
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| 专利代理人 | 周国城
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| 文献类型 | 专利
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| 条目标识符 | http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/21949
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| 专题 | 集成光电子学国家重点实验室
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
刘宏伟,阚强,王春霞,等. 一种利用光谱强度变化检测介质折射率变化的装置. CN201010139176.7.
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