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一种提高镁在Ⅲ-Ⅴ族氮化物中激活效率的方法; 一种提高镁在Ⅲ-Ⅴ族氮化物中激活效率的方法
纪攀峰; 李京波; 闫建昌; 刘乃鑫; 刘喆; 王军喜; 李晋闽
专利权人中国科学院半导体研究所
公开日期2011-08-31 ; 2011-08-31 ; 2011-08-31
授权国家中国
专利类型发明
摘要本发明公开了一种提高镁在III-V族氮化物中激活效率的方法,该方法是在镁掺杂的p型III-V族氮化物的表面蒸镀一层2nm至10nm的金属钛,然后在N2气氛下退火,并用酸性液体洗掉蒸镀在p型III-V族氮化物上的金属钛。利用本发明,使镁在III-V族氮化物中的激活效率大大的提高,增加了p型III-V族氮化物中空穴的浓度。
部门归属中科院半导体照明研发中心
专利号CN200910241699.X
语种中文
专利状态公开
申请号CN200910241699.X
专利代理人周国城
文献类型专利
条目标识符http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/22161
专题中科院半导体照明研发中心
推荐引用方式
GB/T 7714
纪攀峰,李京波,闫建昌,等. 一种提高镁在Ⅲ-Ⅴ族氮化物中激活效率的方法, 一种提高镁在Ⅲ-Ⅴ族氮化物中激活效率的方法. CN200910241699.X.
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