| 降低衬底表面残留杂质浓度的方法 | |
| 刘京明; 赵有文; 王凤华; 杨凤云 | |
| 专利权人 | 中国科学院 |
| 公开日期 | 2013-04-03 ; 2013-04-03 |
| 授权国家 | 中国 |
| 专利类型 | 发明 |
| 学科领域 | 半导体材料 |
| 申请日期 | 2012-12-21 |
| 申请号 | CN201210564716.5 |
| 文献类型 | 专利 |
| 条目标识符 | http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/25172 |
| 专题 | 中科院半导体材料科学重点实验室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 刘京明,赵有文,王凤华,等. 降低衬底表面残留杂质浓度的方法. |
| 条目包含的文件 | ||||||
| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| 降低衬底表面残留杂质浓度的方法.pdf（553KB） | 限制开放 | 使用许可 | 请求全文 | |||
| 个性服务 |
| 推荐该条目 |
| 保存到收藏夹 |
| 查看访问统计 |
| 导出为Endnote文件 |
| 谷歌学术 |
| 谷歌学术中相似的文章 |
| [刘京明]的文章 |
| [赵有文]的文章 |
| [王凤华]的文章 |
| 百度学术 |
| 百度学术中相似的文章 |
| [刘京明]的文章 |
| [赵有文]的文章 |
| [王凤华]的文章 |
| 必应学术 |
| 必应学术中相似的文章 |
| [刘京明]的文章 |
| [赵有文]的文章 |
| [王凤华]的文章 |
| 相关权益政策 |
| 暂无数据 |
| 收藏/分享 |
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。
修改评论