在Si基上制备InP基n-MOS器件的方法 | |
李士颜; 周旭亮; 于红艳; 李梦珂; 米俊萍; 潘教青 | |
专利权人 | 中国科学院半导体研究所 |
公开日期 | 2013-04-24 |
授权国家 | 中国 |
专利类型 | 发明 |
学科领域 | 半导体材料 |
申请日期 | 2013-01-22 |
申请号 | CN201310023622.1 |
文献类型 | 专利 |
条目标识符 | http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/25691 |
专题 | 中科院半导体材料科学重点实验室 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 李士颜,周旭亮,于红艳,等. 在Si基上制备InP基n-MOS器件的方法. |
条目包含的文件 | ||||||
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