基于ART结构的硅基沟槽内生长GaAs材料的NMOS器件 | |
李梦珂; 周旭亮; 于红艳; 李士颜; 米俊萍; 潘教青 | |
专利权人 | 中国科学院半导体研究所 |
公开日期 | 2013-06-26 |
授权国家 | 中国 |
专利类型 | 发明 |
学科领域 | 半导体材料 |
申请日期 | 2013-02-27 |
申请号 | CN201310060711.3 |
文献类型 | 专利 |
条目标识符 | http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/25873 |
专题 | 中科院半导体材料科学重点实验室 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 李梦珂,周旭亮,于红艳,等. 基于ART结构的硅基沟槽内生长GaAs材料的NMOS器件. |
条目包含的文件 | ||||||
文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
基于ART结构的硅基沟槽内生长GaAs材(431KB) | 限制开放 | 使用许可 | 请求全文 |
个性服务 |
推荐该条目 |
保存到收藏夹 |
查看访问统计 |
导出为Endnote文件 |
谷歌学术 |
谷歌学术中相似的文章 |
[李梦珂]的文章 |
[周旭亮]的文章 |
[于红艳]的文章 |
百度学术 |
百度学术中相似的文章 |
[李梦珂]的文章 |
[周旭亮]的文章 |
[于红艳]的文章 |
必应学术 |
必应学术中相似的文章 |
[李梦珂]的文章 |
[周旭亮]的文章 |
[于红艳]的文章 |
相关权益政策 |
暂无数据 |
收藏/分享 |
除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。
修改评论