Knowledge Management System Of Institute of Semiconductors,CAS
| Ⅲ族氮化物单/多层异质应变薄膜的制作方法 | |
| 陈振; 陆大成; 刘祥林; 王晓晖; 袁海荣; 王占国 | |
| 2002-08-21 | |
| 公开日期 | 2009-06-04 ; 2009-06-11 |
| 专利类型 | 发明 |
| 申请日期 | 2001-01-12 |
| 语种 | 中文 |
| 申请号 | CN01100454.1 |
| 文献类型 | 专利 |
| 条目标识符 | http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/3071 |
| 专题 | 中国科学院半导体研究所（2009年前） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 陈振,陆大成,刘祥林,等. Ⅲ族氮化物单/多层异质应变薄膜的制作方法[P]. 2002-08-21. |
| 条目包含的文件 | ||||||
| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| 01100454.pdf（593KB） | 限制开放 | -- | 请求全文 | |||
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