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中国科学院半导体研究所机构知识库
Knowledge Management System Of Institute of Semiconductors,CAS
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中科院半导体照明研发... [2]
作者
杨少延 [6]
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期刊论文
作者:
Chen, Shujian
;
Migaud, Herve
;
Shi, Ce
;
Song, Changbin
;
Wang, Chunlin
;
Ye, Yangfang
;
Ren, Zhiming
;
Wang, Huan
;
Mu, Changkao
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提交时间:2022/03/23
无权访问的条目
期刊论文
作者:
Dou, Juan
;
Zhang, Gaoli
;
Shi, Ce
;
Song, Changbin
;
Mu, Changkao
;
Ye, Yangfang
;
Wang, Chunlin
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提交时间:2022/07/26
无权访问的条目
期刊论文
作者:
Yin ZG (Yin Zhigang)
;
Chen NF (Chen Nuofu)
;
Dai RX (Dai Ruixuan)
;
Liu L (Liu Lei)
;
Zhang XW (Zhang Xingwang)
;
Wang XH (Wang Xiaohui)
;
Wu JL (Wu Jinliang)
;
Chai CL (Chai Chunlin)
;
Yin, ZG, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Key Lab Semicond Mat Sci, Beijing 100083, Peoples R China. 电子邮箱地址: yzhg@semi.ac.cn
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提交时间:2010/03/29
一种制备金属铪薄膜材料的方法
专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2006-07-05, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:
杨少延
;
柴春林
;
刘志凯
;
陈涌海
;
陈诺夫
;
王占国
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提交时间:2009/06/11
一种制备金属锆薄膜材料的方法
专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2006-07-05, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:
杨少延
;
柴春林
;
刘志凯
;
陈涌海
;
陈诺夫
;
王占国
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浏览/下载:1366/153
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提交时间:2009/06/11
利用离子束外延生长设备制备氮化锆薄膜材料的方法
专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2006-05-31, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:
杨少延
;
柴春林
;
刘志凯
;
陈涌海
;
陈诺夫
;
王占国
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提交时间:2009/06/11
利用离子束外延生长设备制备氮化铪薄膜材料的方法
专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2006-05-31, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:
杨少延
;
柴春林
;
刘志凯
;
陈涌海
;
陈诺夫
;
王占国
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提交时间:2009/06/11
低能氧离子束辅助脉冲激光沉积氧化物薄膜的方法
专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2005-11-16, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:
杨少延
;
刘志凯
;
柴春林
;
陈诺夫
;
王占国
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提交时间:2009/06/11
无权访问的条目
期刊论文
作者:
杨少延
;
柴春林
;
周剑平
;
刘志凯
;
陈涌海
;
陈诺夫
;
王占国
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提交时间:2010/11/23
无权访问的条目
期刊论文
作者:
陈诺夫
;
张富强
;
杨君玲
;
刘志凯
;
杨少延
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柴春林
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王占国
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胡文瑞
;
林兰英
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提交时间:2010/11/23